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光學(xué)平臺產(chǎn)品及廠家
URE-2000/600 紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/600 紫外單面光刻機(jī),光束口徑: 650mm×650mm,對準(zhǔn)精度: ±1.5μm
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
DS-2000/14K無掩膜單面光刻機(jī)
ds-2000/14k 無掩膜單面光刻機(jī),采用 dmd 作為數(shù)字掩模,像素?cái)?shù) 1024×768,采用 14 倍縮小投影光刻物鏡成像。
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
DS-2000/14G型無掩模單面光刻機(jī)
ds-2000/14g 型無掩模單面光刻機(jī),采用 dmd 作為數(shù)字掩模,像素?cái)?shù) 1024×768 或 1920×1080 或 25601600 三種選配,采用縮小投影光刻物鏡成像,分辨力 1um。
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
URE-2000/35A紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/35a 型紫外單面光刻機(jī),,非常適合工廠(效率高,操作傻瓜型,全自動)和高校教學(xué)科研(可靠性好,演示方便)采用自動找平,具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能,自動分離對準(zhǔn)間隙和消除曝光間隙,采用 350w 進(jìn)口(德國)直流汞燈,可調(diào)節(jié)光的能量密度。設(shè)備外形美觀精制,性能非?煽,自動化程度很高,操作十分方便。
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
URE-2000/35紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/35 型紫外單面光刻機(jī),非常適合工廠(效率高,操作傻瓜型,自動化程度高)和高校教學(xué)科研(可靠性好,演示方便)采用自動找平,具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能,自動分離對準(zhǔn)間隙和消除曝光間隙,采用 350w 進(jìn)口(德國)直流汞燈,可調(diào)節(jié)光的能量密度。設(shè)備外形美觀精制,性能非?煽浚詣踊潭群芨,操作十分方便。
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
URE-2000/35L紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/35l 型紫外單面光刻機(jī),曝光面積:100mm×100mm;分辨力:1.0 μm(膠厚 2.0 μm 的正膠,365nm 波長)
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
URE-2000/17型紫外單面光刻機(jī)(臺式)
ure-2000/17 型紫外單面光刻機(jī)(臺式),曝光面積:4 英寸,分辨力:1.5μm(膠厚 2 m 的正膠),對準(zhǔn)精度:±1μm
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
URE-2000/25型紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/25 型紫外單面光刻機(jī),曝光面積:4 英寸,分辨力:1 μm(膠厚 2 μm的正膠),對準(zhǔn)精度:± 0.8μm
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
URE-2000S/25A紫外雙面光刻機(jī)型紫外單面光刻機(jī)
ure-2000s/25a 型紫外雙面光刻機(jī),曝光面積:6 英寸,分辨力:1 μm
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
URE-2000S/25 型紫外雙面光刻機(jī)
ure-2000s/25 型紫外雙面光刻機(jī),曝光面積:4 英寸,正面對準(zhǔn)采用雙目雙視場對準(zhǔn)顯微鏡:既可通過目鏡目視對準(zhǔn),也可通過 ccd+顯示器對準(zhǔn),光學(xué)合像,光學(xué)大倍數(shù) 400 倍,光學(xué)+電子放大 800 倍
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
URE-2000S/B型紫外雙面光刻機(jī)
ure-2000s/b 型紫外雙面光刻機(jī),曝光面積:6 英寸,對準(zhǔn)精度:± 2μm (雙面,片厚 0.8mm),± 0.8μm (單面)
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
URE-2000S/A8 型紫外雙面光刻機(jī)
ure-2000s/a8 型紫外雙面光刻機(jī), 曝光面積:8 英寸, 曝光波長:365nm: 15mw/cm,405nm:15-30mw/cm2, 對準(zhǔn)精度:±2 μm (雙面,片厚 0.8mm)±0.8 μm (單面)
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
URE-2000S/25S 型雙面光刻機(jī)
ure-2000s/25s 型雙面光刻機(jī),曝光面積:4 英寸(或 6 英寸),正面對準(zhǔn)采用雙目雙視場對準(zhǔn)顯微鏡:既可通過目鏡目視對準(zhǔn),也可通過 ccd+顯示器對準(zhǔn),光學(xué)合像,光學(xué)大倍數(shù) 400 倍,光學(xué)+電子放大 800 倍
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
URE-2000S/35L(A)型紫外雙面光刻機(jī)
ure-2000s/35l(a)型紫外雙面光刻機(jī),曝光面積:6 英寸,正面對準(zhǔn)采用雙目雙視場對準(zhǔn)顯微鏡:既可通過目鏡目視對準(zhǔn),也可通過 ccd+顯示器對準(zhǔn),光學(xué)合像,光學(xué)大倍數(shù) 400 倍,光學(xué)+電子放大 800 倍
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
URE-2000S/35L(B)型雙面光刻機(jī)
ure-2000s/35l(b)型雙面光刻機(jī), 曝光面積:4 英寸, 正面對準(zhǔn)采用雙目雙視場對準(zhǔn)顯微鏡:既可通過目鏡目視對準(zhǔn),也可通過 ccd+顯示器對準(zhǔn),光學(xué)合像,光學(xué) 大倍數(shù) 400 倍,光學(xué)+電子放大 800 倍
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
URE-2000/30 型紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/30 型紫外單面光刻機(jī),高倍率雙目雙視場顯微鏡和 22 英寸寬屏液晶顯示同時(shí)觀察對準(zhǔn)過程,并提供 usb 輸出;既滿足高精度對準(zhǔn),又可用于檢測曝光結(jié)果,且曝光結(jié)果和方便存儲
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
URE-2000/35AL 型紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/35al 型紫外單面光刻機(jī),曝光面積:150mm×150mm;分辨力:1.0μm(365nm 波長),對準(zhǔn)精度:≤±0.8μm
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
OAI 200美國 OAI 光刻機(jī) Model 200 型桌面掩模對準(zhǔn)器系統(tǒng)
美國 oai 光刻機(jī) model 200 型桌面掩模對準(zhǔn)器系統(tǒng),完全手工操作,輸出光譜范圍:hg: g(436海里),h(405海里),i(365nm)和310nm線,hg-xe: 260nm和220nm或led: 365nm, 395nm, 405nm
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
100S接觸角測量儀
100s接觸角測量儀是采用光學(xué)成像的原理,通過圖像輪廓分析方式測量樣品表面接觸角、潤濕性能、表界面張力、表面能等性能,設(shè)備性價(jià)比高、功能全面、可滿足各種常規(guī)測量需要。
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
100S德國KRUSS標(biāo)準(zhǔn)型DSA25接觸角測量儀
德國kruss標(biāo)準(zhǔn)型dsa25接觸角測量儀,接觸角測量范圍:0-180,接觸角測量精度:±0.10,表界面張力測量范圍:0-1000mn/m;測量精度:0.01 mn/m
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
URE-2000 系列紫外單面光刻機(jī)
ure-2000 系列紫外單面光刻機(jī)此系列包含六種型號:ure-2000a,ure-2000b,ure-2000/35,ure-2000/35a,ure-2000/25,ure-2000/17
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
URE-2000S 系列雙面光刻機(jī)紫外雙面光刻機(jī)
ure-2000s 系列雙面光刻機(jī),對準(zhǔn)精度:±2 mm(雙面,片厚 0.8mm),±0.8mm(單面)
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
THz-NeaSNOMOptiCool超精準(zhǔn)全開放強(qiáng)磁場低溫光學(xué)研究平臺
opticool超精準(zhǔn)全開放強(qiáng)磁場低溫光學(xué)研究平臺,系統(tǒng)擁有3.8英寸超大樣品腔、雙錐型劈裂磁體,可在超大空間為您提供高達(dá)±7t的磁場。多達(dá)7個(gè)側(cè)面窗口、1個(gè)頂部超大窗口方便光線由各個(gè)方向引入樣品腔,高度集成式的設(shè)計(jì)讓您的樣品在擁有低溫磁場的同時(shí)擺脫大型低溫系統(tǒng)的各種束縛。
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
attoAFM/attoMFM/attoSHPM低溫強(qiáng)磁場原子力/磁力/掃描霍爾顯微鏡
attoafm/attomfm/attoshpm 低溫強(qiáng)磁場原子力/磁力/掃描霍爾顯微鏡,采用模塊化的設(shè)計(jì)。利用標(biāo)配的控制器和樣品掃描臺,用戶僅需要更換掃描頭和對應(yīng)的光學(xué)部件即可實(shí)現(xiàn)不同功能之間的切換。
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
MDPmap德國Sentech光伏測量儀
德國sentech光伏測量儀mdpmap,靈活的自動掃描系統(tǒng),是專為半導(dǎo)體晶片或部分工藝過的晶片的多功能、非接觸和少子壽命測量而設(shè)計(jì)的。mdpmap能夠連續(xù)地改變激發(fā)脈沖寬度,從非常短的脈沖(100ns)到穩(wěn)態(tài)測量(幾ms),研究不同深度的缺陷動力學(xué)和少子壽命特性。直觀的繪圖軟件適用于有效的常規(guī)測量以及復(fù)雜的研發(fā)應(yīng)用。
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
V-quattro德國KSI 四探頭超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)
ksi v-quattro四探頭超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng),四探頭系統(tǒng),同時(shí)使用4只換能器
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
V-Octo德國 KSI 八探頭大型超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)
ksi v-octo 八探頭大型超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng),該系統(tǒng)同時(shí)使用8只換能器,能最大限度的確?焖賵D像采集和高效能。
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
v1000EKSI 單探頭多用途超聲波掃描顯微鏡
ksi v1000e 單探頭多用途超聲波掃描顯微鏡,用于研發(fā)和生產(chǎn)部門檢測特大件樣品
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
V700E德國KSI 單探頭超聲波掃描顯微鏡
ksi v700e 單探頭超聲波掃描顯微鏡,用于檢測大件樣品
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
V400E德國 KSI 單探頭多用途超聲波掃描顯微鏡
ksi v400e 單探頭多用途超聲波掃描顯微鏡,是實(shí)驗(yàn)室、研發(fā)和工業(yè)生產(chǎn)線主流機(jī)型。
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
V300E德國 KSI 單探頭超聲波掃描顯微鏡
ksi v300e 單探頭超聲波掃描顯微鏡,掃描機(jī)械機(jī)構(gòu)
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
JSM-7900F日本JEOL熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡
日本jeol熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f,它繼承了上一代廣獲好評的性能如高的空間分辨率、高穩(wěn)定性、多種功能等的同時(shí),操作性能大簡單化。該設(shè)備不依賴操作者的技能,始終能夠發(fā)揮其佳性能。
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
Serial Block-face SEM 3View日本JEOL發(fā)射掃描電子顯微鏡
日本jeol熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f,它繼承了上一代廣獲好評的性能如高的空間分辨率、高穩(wěn)定性、多種功能等的同時(shí),操作性能大簡單化。該設(shè)備不依賴操作者的技能,始終能夠發(fā)揮其佳性能。
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
JED-2300/2300F日本JEOL能譜儀
日本jeol能譜儀jed-2300/2300f analysis station是以“圖像觀察和分析“ 為基本理念的tem/eds集成系統(tǒng)。通過與sem的馬達(dá)驅(qū)動樣品臺聯(lián)動使用,可以進(jìn)行大范圍的觀察和分析。 eds通過檢測被電子束激發(fā)出的樣品特征x射線,確定樣品含有的元素及成分比,可以進(jìn)行微區(qū)的點(diǎn)分析、線分析及面分析。
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
JSM-IT500日本JEOL掃描電子顯微鏡
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it500,是jeol intouchscope系列的新機(jī)型。 從設(shè)定視野到生成報(bào)告,用于分析的軟件整合于一體,加快了作業(yè)速度!是一款無縫操作,使用更加方便的掃描電子顯微鏡。
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
JSM-7200F日本JEOL 熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡
日本jeol 熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7200f,jsm-7200f的電子光學(xué)系統(tǒng)應(yīng)用了日本電子旗艦機(jī)-jsm-7800f prime采用的浸沒式肖特基電子槍技術(shù),標(biāo)配了ttls系統(tǒng)(through-the-lens system),因此無論是在高/低加速電壓下,空間分辨率都比傳統(tǒng)機(jī)型有了很大的提升。
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
P21百及納米PancanNano電子束光刻機(jī)
新一代超高精度電子束光刻機(jī) p21,樣品尺寸覆蓋 2/4/6 英寸晶圓,超高寫場拼接精度,電子束閉環(huán)控制系統(tǒng),束流的時(shí)間及空間穩(wěn)定性高,高性能 30 kv 電子束光刻機(jī)。
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
FPS6100瑞典 Mycronic 掩膜版光刻機(jī)
瑞典 mycronic 掩膜版光刻機(jī) fps6100,用于制作高精度掩膜版,廣泛用于半導(dǎo)體,tft-lcd,微電子等行業(yè)。
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
Photonic Professional GT2英國Nanobean 電子束光刻機(jī)
英國nanobean nb5 電子束光刻機(jī),具有良好的穩(wěn)定性,平均正常運(yùn)行時(shí)間超過93%.
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
Minilock-Phantom III美國Trion 具有預(yù)真空室的反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
minilock-phantom iii 具有預(yù)真空室的反應(yīng)離子刻蝕機(jī)。適用于單個(gè)基片或帶承片盤的基片(3” - 300mm尺寸),為實(shí)驗(yàn)室和試制線生產(chǎn)環(huán)境提供最先進(jìn)的刻蝕能力。它也具有多尺寸批量處理(4x3”; 3x4”; 7x2”)。系統(tǒng)有多達(dá)七種工藝氣體可以用于刻蝕各種薄膜,如氧化硅、氮化硅、多晶硅、鋁、砷化鎵、鉻、銅、磷化銦和鈦。
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
Oracle III美國Trion反應(yīng)離子刻蝕與沉積系統(tǒng)
oracle iii由中央真空傳輸系統(tǒng)(cvt)、真空盒升降機(jī)和最多四個(gè)工藝反應(yīng)室構(gòu)成。這些工藝反應(yīng)室與中央負(fù)載鎖對接,既能夠以生產(chǎn)模式運(yùn)行,也能夠作為單個(gè)系統(tǒng)獨(dú)立作業(yè)。 oracle iii是市場上最靈活的系統(tǒng),既可以為實(shí)驗(yàn)室環(huán)境進(jìn)行配置(使用單基片裝卸),也可以為批量生產(chǎn)進(jìn)行配置(使用真空盒升降機(jī)進(jìn)行基片傳送)。
更新時(shí)間:
2025-05-09
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
TITAN美國Trion 離子刻蝕與沉積系統(tǒng)
titan是一套用于半導(dǎo)體生產(chǎn)的十分緊湊、全自動化、帶預(yù)真空室的等離子系統(tǒng)。titan具有反應(yīng)離子刻蝕(rie)配置、高密度電感耦合等離子沉積(hdicp)或等離子增強(qiáng)型化學(xué)汽相沉積(pecvd)配置?蓪蝹(gè)基片或帶承片盤的基片(3”-300mm)進(jìn)行處理。它還具有多尺寸批量處理功能。價(jià)格適宜且占地面積小。
更新時(shí)間:
2025-05-09
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
Orion III PECVD美國Trion 薄膜沉積系統(tǒng)
美國trion orion iii pecvd 薄膜沉積系統(tǒng)可以在緊湊的平臺上生產(chǎn)高品質(zhì)的薄膜。獨(dú)特的反應(yīng)器設(shè)計(jì)可以在在極低的功率生產(chǎn)具有優(yōu)異臺階覆蓋的低應(yīng)力薄膜。該系統(tǒng)可以滿足實(shí)驗(yàn)室和中試生產(chǎn)環(huán)境中的所有安全,設(shè)施和工藝標(biāo)準(zhǔn)要求。
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
Orion HDCVD美國Trion 高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
orion hdcvd 高密度氣相化學(xué)沉積系統(tǒng)采用高密度的化學(xué)氣相沉積技術(shù),在惰性氣體進(jìn)入口安裝感應(yīng)線圈,周圍布置陶瓷管。射頻創(chuàng)建等離子體,通過氣體環(huán)在襯底表面附近引入揮發(fā)性氣體。當(dāng)惰性氣體與揮發(fā)性物質(zhì)結(jié)合時(shí),會發(fā)生化學(xué)反應(yīng),然后在襯底表面沉積一層薄膜.
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
Sigma SEM德Zeiss 電子束直寫儀
德zeiss sigma sem 電子束直寫儀,利用曝光抗蝕劑,采用電子束直接曝光,可在各種襯底材料表面直寫各種圖形,圖形結(jié)構(gòu)(小線寬為10mm),是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要工具。廣泛應(yīng)用于納米器件,光子晶體,低維半導(dǎo)體等沿域。
更新時(shí)間:
2025-05-09
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
CL7000俄羅斯 Optosystem 準(zhǔn)分子激光器
俄羅斯 optosystem 準(zhǔn)分子激光器:cl7000, 準(zhǔn)分子激光器是傳統(tǒng)的氣體激光器,由于波長短(紫外),短脈沖寬度,高脈沖能量,是激光器家族不可替代的品種!應(yīng)用上,準(zhǔn)分子激光器在脈沖沉積鍍膜(pld),光纖光柵刻寫,lasik,光刻,微納加工等方面占主導(dǎo)的地位。
更新時(shí)間:
2025-05-09
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DENTON磁控濺射及電子束蒸發(fā)薄膜沉積平臺英國 DENTON 磁控濺射及電子束蒸發(fā)薄膜沉積平臺
denton 磁控濺射及電子束蒸發(fā)薄膜沉積平臺,提供了薄膜工業(yè)中廣泛的配置和沉積模式:電子束蒸發(fā)、電阻蒸發(fā)、濺射、離子鍍和離子輔助沉積。
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2025-05-09
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DV-502B英國 Denton 熱蒸發(fā)濺射儀
denton 熱蒸發(fā)濺射儀dv-502b,在大氣和高真空之間快速循環(huán)。
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2025-05-09
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MEB550SL3法Plassys超高真空多腔體電子束鍍膜機(jī)
法plassys超高真空多腔體電子束鍍膜機(jī)meb550sl3,可以用于沉積ti, ni, au, cr, al, al2o3等金屬及氧化物薄膜,目全球主要超導(dǎo)量子實(shí)驗(yàn)室均使用該設(shè)備制備超導(dǎo)al結(jié)(量子比特和約瑟夫森結(jié))和量子器件,可以制備大面積、高度穩(wěn)定性和可重復(fù)性超導(dǎo)結(jié)。
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2025-05-09
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美Arradiance 臺式三維原子沉積系統(tǒng)ALD臺式三維原子沉積系統(tǒng)ALD
美arradiance 臺式三維原子沉積系統(tǒng)ald,在小巧的機(jī)身(78 x56 x28 cm)中集成了原子層沉積所需的所有功能,可最多容納9片8英寸基片同時(shí)沉積。gemstar xt全系配備熱壁,結(jié)合前驅(qū)體瓶加熱,管路加熱,橫向噴頭等設(shè)計(jì),使溫度均勻性高達(dá)99.9%,氣流對溫度影響減少到0.03%以下。
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2025-05-09
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